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五金工具产品及配附件制造技术
  • 航空零件氰化面的加工方法
    航空零件氰化面的加工方法_中国航发成都发动机有限公司_202310574903.X
    本发明的航空零件氰化面的加工方法，属于航空零件加工的技术领域，解决现有技术中成品加工效率较低的技术问题。所述方法包括：样品的初加工，形成第一待加工样品；氰化工艺处理所述第一待加工样品形成第二待加工样品，所述第二待加工样品表面形成有氰化层；所...
    2026-04-22
  • 一种酸洗磷化槽
    一种酸洗磷化槽_罗江欣悦生清洁能源装备有限公司_202521011401.7
    本实用新型涉及酸洗磷化槽技术领域，具体为一种酸洗磷化槽，包括槽体和分隔机构；槽体的内部设置有浸泡框，浸泡框上设置有多个漏孔；分隔机构包括两个上下分布且卡接设置在浸泡框内部的框体、设置在框体上的钢筋架、多个对称分布在浸泡框上且具有凹槽的固定块...
    2026-04-22
  • 一种气相沉积设备
    一种气相沉积设备_楚赟科技(绍兴)有限公司_202410101030.5
    本发明提供了一种气相沉积设备，包括反应腔；第一气体注入机构位于反应腔顶部的中间区域；第二气体注入机构位于反应腔顶部的外围区域并环绕第一气体注入机构设置；遮挡件环绕反应腔的内侧壁设置，遮挡件与反应腔的内侧壁、第二气体注入机构之间适配地围设成一...
    2026-04-22
  • 一种低氧铌粉的真空钝化处理装置及方法
    一种低氧铌粉的真空钝化处理装置及方法_南阳广林新材料科技有限公司_202511877363.8
    本申请涉及金属材料加工技术领域，尤其是涉及一种低氧铌粉的真空钝化处理装置及方法，针对现有低氧铌粉钝化工艺控氧精度低、保护层结合力弱导致氧含量增幅超标，且配套装置协同性不足的问题，本发明方法包括：惰性气氛下预处理装填低氧铌粉，高真空加热至T1...
    2026-04-22
  • 一种用于制备钙钛矿薄膜的气相输运方法和设备
    一种用于制备钙钛矿薄膜的气相输运方法和设备_中节能太阳能科技(镇江)有限公司_202511808570.8
    本文提出了一种用于制备钙钛矿薄膜的气相输运方法和设备，设备包括反应腔、下载板进料腔、下载板出料腔、下载板上料台、下载板下料台、上载板进料腔、上载板出料腔、上载板上料台和上载板下料台，各组件协同运作，实现对钙钛矿薄膜制备过程的精确控制，利用该...
    2026-04-22
  • 一种光学薄膜应力控制方法及真空镀膜系统
    一种光学薄膜应力控制方法及真空镀膜系统_宁波锦辉光学科技股份有限公司_202610043670.4
    本发明公开了一种光学薄膜应力控制方法及真空镀膜系统。所述方法包括：首先在PECVD腔室内利用含有机组分的前驱体在基底表面形成具有粘弹性的缓冲层；随后在真空连通环境下将基底传至PVD腔室沉积金属层，并施加脉冲偏压引入本征压缩应力，以预补偿后续...
    2026-04-22
  • 一种激光织构化石墨复合润滑的高熵氮化物涂层及其制备方法
    一种激光织构化石墨复合润滑的高熵氮化物涂层及其制备方法_江苏集萃表面工程技术研究所有限公司_202610083173.7
    本发明公开了一种激光织构化石墨复合润滑的高熵氮化物涂层及其制备方法。属于金属材料表面改性技术领域。一种激光织构化石墨复合润滑的高熵氮化物涂层，包括Ti合金基体，自Ti合金基体表面向外依次设置表面织构化的TaTiZrVHfN高熵氮化物层、固体...
    2026-04-22
  • 一种转子表面处理工艺
    一种转子表面处理工艺_浙江博亚精密机械有限公司_202511943998.3
    本发明提供一种转子表面处理工艺，涉及表面处理技术领域，该转子表面处理工艺，涂层自基体向外依次包括软层A、硬层B和韧化层C；软层A由金属Mo或W与递增含量的C或S形成的金属润滑复合层；硬层B由金属氮化物或碳氮化物形成；软层A与硬层B之间为连续...
    2026-04-22
  • 表面涂覆的切削工具
    表面涂覆的切削工具_肯纳金属公司_202511440681.8
    在一个方面，本文描述了切削工具，所述切削工具包括耐火涂层，所述耐火涂层包括MT‑TiCN层和α‑Al2O3层，所述层具有有利于抵抗包含开裂和/或剥落的各种降解机制的结晶取向和架构。因此，在一些实施方案中，具有此类耐火涂层的切削工具适用于高磨...
    2026-04-22
  • 一种多层结构的复合热障涂层、其制备方法及应用
    一种多层结构的复合热障涂层、其制备方法及应用_安徽工业大学_202512026090.2
    本发明公开了一种多层结构的复合热障涂层、其制备方法及应用。所述复合热障涂层包括NiCrAlY粘结层、8YSZ中间层及Y2Zr2O7‑Y3Al5O12陶瓷顶层。其中，所述Y2Zr2O7‑Y3Al5O12陶瓷顶层中Y3Al5O12的摩尔占比为1...
    2026-04-22
  • 一种钢表面阻氢耐磨涂层及其制备方法
    一种钢表面阻氢耐磨涂层及其制备方法_成都成高阀门股份有限公司_202610329006.6
    本发明公开了一种钢表面阻氢耐磨涂层及其制备方法，属于阻氢涂层制备技术领域。钢表面阻氢耐磨涂层包括位于钢基体表面的由下到上依次重叠设置的TiCrZr金属过渡层、陶瓷过渡层和复合氧化物阻氢耐磨层；陶瓷过渡层为ZrO2和Al2O3交替堆叠的多层过...
    2026-04-22
  • 一种耐磨抗蚀热障复合涂层及其制备方法
    一种耐磨抗蚀热障复合涂层及其制备方法_西安赛福斯材料防护有限责任公司_202610068678.6
    本公开提供了一种耐磨抗蚀热障复合涂层及其制备方法，涉及材料表面工程技术领域。该耐磨抗蚀热障复合涂层包括：形成于基体的表面的耐磨抗蚀层，耐磨抗蚀层的材料为WC‑6Co、WC‑12Co、WC‑17Co、WC‑10Co‑4Cr、WC‑9Co‑5C...
    2026-04-22
  • 一种真空蒸镀图形化金属件及其制备方法
    一种真空蒸镀图形化金属件及其制备方法_湖北倬成新材料科技有限公司_202610118142.0
    本发明涉及一种真空蒸镀图形化金属件及其制备方法，制备方法包括：S1.获取金属基材，对金属基材进行除油、洗涤、碱浸、洗涤、吹干，得到预处理金属基材；S2.在预处理金属基材的表面涂覆油墨，预烘干、曝光、显影，形成图形化油墨层，得到显影金属件；S...
    2026-04-22
  • 一种金属粉末等离子喷涂设备及其工艺
    一种金属粉末等离子喷涂设备及其工艺_李光超_202311358064.4
    本发明涉及等离子喷涂技术领域，具体为一种金属粉末等离子喷涂设备，包括所述喷枪上安装有喷嘴，所述喷嘴处安装有粉末输送管，所述喷管侧壁上绕喷管轴线均匀开设有多个输气管道，所述喷管外侧壁上固定安装有环形管道，所述环形管道与输气管道连通，所述环形管...
    2026-04-22
  • 感光材料板基板氧化装置和感光材料板基板氧化方法
    感光材料板基板氧化装置和感光材料板基板氧化方法_河南汇达印通科技股份有限公司_202610232206.X
    本发明涉及感光材料板技术领域，名称是感光材料板基板氧化装置，包括装置架，在装置架下面安装有氧化槽，所述的升降部件连接有横板，所述的升降部件连接控制装置，在横板的左侧具有竖直设置的固定板，这个固定部是左固定板，在左固定板上安装有朝向右侧的夹具...
    2026-04-22
  • 镀铬机中的等离子束喷射系统
    镀铬机中的等离子束喷射系统_张家港市美安金属制品科技有限公司_202610008108.8
    本发明涉及等离子喷射技术领域，公开了一种镀铬机中的等离子束喷射系统，包括电镀仓，电镀仓的表面一侧设置有与之相配合的仓门，电镀仓的内部设置有工件装夹机构，用于实现工件的装夹固定，并带动工件在公转的同时实现自转，电镀仓的内壁两侧均设置有等离子束...
    2026-04-22
  • 一种用于微波等离子体化学气相沉积的真空系统
    一种用于微波等离子体化学气相沉积的真空系统_河南省科学院激光制造研究所_202512022421.5
    本发明公开了一种用于微波等离子体化学气相沉积的真空系统，包括真空腔本体、处理器和分别设置在真空腔体进气口用于精确控制各种组分气体的流量和比例的进气系统和设置在真空腔体出气口用于与进气系统联动并通过处理器控制真空腔本体内气压的出气系统；所述的...
    2026-04-22
  • 一种塑料件表面磁控溅射镀膜装置
    一种塑料件表面磁控溅射镀膜装置_浙江鼎梓塑胶科技股份有限公司_202520863125.0
    本实用新型公开了一种塑料件表面磁控溅射镀膜装置，属于磁控溅射镀膜技术领域，包括底座，底座上安装有镀膜仓，镀膜仓呈竖直布置的圆柱形，镀膜仓的圆弧面上开设有进料口，进料口处铰接有密封门，镀膜仓内部设置有呈上下布置的连接环，两个连接环分别和镀膜仓...
    2026-04-22
  • 一种真空蒸镀设备用观察镜
    一种真空蒸镀设备用观察镜_无锡芯谱半导体科技有限公司_202520866806.2
    本实用新型公开了一种真空蒸镀设备用观察镜，涉及蒸镀观察辅助结构技术领域，包括从下至上依次连接固定的固定底座、下层安装架和上层安装架，下层安装架和上层安装架中央分别开设有下通口和上通口，下通口和上通口形成有观察通道，观察通道内设置有呈透明状的...
    2026-04-22
  • 一种化学气相沉积用气流均布装置及方法
    一种化学气相沉积用气流均布装置及方法_江西汉可泛半导体技术有限公司_202511970844.3
    本申请涉及真空镀膜的技术领域，公开了一种化学气相沉积用气流均布装置，包括反应腔体，其内部限定有沉积空间；匀气组件，设置于所述沉积空间内，用于将通入的反应气体在水平方向上均匀扩散；基片承载区，设置于匀气组件的侧面，用于放置待沉积的基片；进气系...
    2026-04-22
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