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龙图腾网获悉深圳市鹏新旭技术有限公司申请的专利位置校正方法、装置、设备、存储介质及激光退火机台获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121793731B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610203950.7，技术领域涉及：H10P74/20；该发明授权位置校正方法、装置、设备、存储介质及激光退火机台是由胡剑设计研发完成，并于2026-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本位置校正方法、装置、设备、存储介质及激光退火机台在说明书摘要公布了：本申请公开了一种位置校正方法、装置、设备、存储介质及激光退火机台，涉及半导体技术领域，公开的方法应用于激光退火机台，激光退火机台包括工艺腔，所述工艺腔内设有运动平台，运动平台上设有晶圆，晶圆表面具有通过预设激光退火工艺形成的至少一个标定图案，方法包括：对处于运动平台上的晶圆进行拍摄，得到晶圆图像；根据晶圆图像中的标定图案判断晶圆中心位置与激光退火机台的预设中心位置是否对准；在晶圆中心位置与激光退火机台的预设中心位置未对准时，根据标定图案确定晶圆中心位置相对于预设中心位置的偏移量；根据偏移量驱动承载所述晶圆的运动平台移动，以使晶圆中心位置与预设中心位置对准，有效提高了校正效率。

本发明授权位置校正方法、装置、设备、存储介质及激光退火机台在权利要求书中公布了：1.一种位置校正方法，其特征在于，所述方法应用于激光退火机台，所述激光退火机台包括工艺腔，所述工艺腔内设有运动平台，所述运动平台上设有晶圆，所述晶圆表面具有通过预设激光退火工艺形成的至少一个标定图案，所述方法包括： 对处于所述运动平台上的所述晶圆进行拍摄，得到晶圆图像； 根据所述晶圆图像中的所述标定图案判断晶圆中心位置与所述激光退火机台的预设中心位置是否对准； 在所述晶圆中心位置与所述激光退火机台的预设中心位置未对准时，根据所述标定图案确定所述晶圆中心位置相对于所述预设中心位置的偏移量； 根据所述偏移量驱动承载所述晶圆的所述运动平台移动，以使所述晶圆中心位置与所述预设中心位置对准； 所述晶圆表面具有通过预设激光退火工艺形成的至少一个标定图案包括： 在向所述晶圆注入离子； 将所述晶圆承载于所述工艺腔内的所述运动平台上； 按照预设激光扫描参数对所述晶圆执行激光扫描； 其中，所述激光扫描的路径被配置为在所述晶圆的表面形成至少一个所述标定图案。

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