上海映智研磨材料有限公司;衢州博来纳润电子材料有限公司郭瑞轩获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉上海映智研磨材料有限公司;衢州博来纳润电子材料有限公司申请的专利一种反溶开孔抛光垫及其制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121733428B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610234621.9，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权一种反溶开孔抛光垫及其制备方法和用途是由郭瑞轩;王海波设计研发完成，并于2026-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种反溶开孔抛光垫及其制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明提供了一种反溶开孔抛光垫及其制备方法和用途，所述制备方法包括：将无纺布基布在含聚氨酯树脂的浸渍液中浸泡，得到含聚氨酯树脂的基布；将含聚氨酯树脂的基布浸入到第一溶液中进行凝固处理；采用第二溶液对凝固后的基布进行清洗；对清洗后的基布依次进行预烘干、梯度烘干和打磨，获得抛光垫；所述第一溶液和第二溶液为含DMF的水溶液，所述清洗后的基布挤出的液体中DMF的浓度为3~15wt%，所述预烘干的温度为80~100℃，所述梯度烘干的温度为130~180℃。采用本发明的方法制备的抛光垫具备疏松多孔的结构，具有较高的透气率和涵养量，在抛光过程中，具备良好的抛光速率且抛光后硅晶圆的表面质量显著提高。
本发明授权一种反溶开孔抛光垫及其制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种反溶开孔抛光垫的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将无纺布基布在含聚氨酯树脂的浸渍液中浸泡，得到含聚氨酯树脂的基布；将含聚氨酯树脂的基布浸入到第一溶液中进行凝固处理；采用第二溶液对凝固后的基布进行清洗；对清洗后的基布依次进行预烘干、梯度烘干和打磨，获得抛光垫；所述第一溶液和第二溶液为含DMF的水溶液，所述清洗后的基布挤出的液体中DMF的浓度为3~15wt%，所述预烘干的温度为80~100℃，所述梯度烘干的温度为130~180℃；所述第一溶液为含10~30wt%DMF的水溶液；所述凝固处理的时间为10~40min；所述第二溶液为含3~15wt%DMF的水溶液。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海映智研磨材料有限公司;衢州博来纳润电子材料有限公司，其通讯地址为：201703 上海市青浦区沪青平公路3938弄48、49号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励