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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学重庆研究院;哈尔滨工业大学申请的专利一种陶瓷粉体的改性方法、微波介质陶瓷浆料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117362049B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311256558.1，技术领域涉及：C04B35/626；该发明授权一种陶瓷粉体的改性方法、微波介质陶瓷浆料及其制备方法和应用是由杨治华;张砚召;周国相;贺云鹏;贾德昌;周玉设计研发完成，并于2023-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种陶瓷粉体的改性方法、微波介质陶瓷浆料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于光固化打印技术领域，具体涉及一种陶瓷粉体的改性方法、微波介质陶瓷浆料及其制备方法和应用。本发明通过对陶瓷粉体进行表面功能化修饰，硅氧烷基团可以接枝在陶瓷粉体表面，接枝在陶瓷粉体表面裸露出丙烯酸酯基团，使得陶瓷粉体具有光敏特性，该光敏基团可以与陶瓷浆料中使用的光敏树脂中的丙烯酸酯基团进行聚合反应以进而提高陶瓷浆料的固化性能，可以大大降低陶瓷粉体折射率，在零误固化宽度下，提高浆料的增宽固化深度Db，同时，提高光固化打印时的固化层厚，使得层间界面的数量减少，层间界面上的孔隙缺陷数量减少，致密度和品质因数得以提高。浆料较高固化深度还有助于提高打印效率，促进光固化3D打印射频器件的工业化生产。

本发明授权一种陶瓷粉体的改性方法、微波介质陶瓷浆料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种微波介质陶瓷浆料，其特征在于，以微波介质陶瓷浆料的总质量计，包括如下质量百分含量的组分： UV光固化低聚物3-15%；稀释剂2.8-15%；改性陶瓷粉体70-90%；流平剂0.4-1.5%；消泡剂0.4-1.5%； 还包括占UV光固化低聚物和稀释剂的总质量0.15-0.9%的光引发剂；占UV光固化低聚物和稀释剂的总质量0.03-0.3%的阻聚剂； 占改性陶瓷粉体质量3-6%的分散剂； 所述UV光固化低聚物包括环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯中的至少一种； 所述陶瓷粉体的改性方法包括如下步骤： S1，将修饰剂与有机溶剂混合，水解，得到水解修饰剂；其中，所述有机溶剂的pH为4-5，所述修饰剂具有如下式所示组成： ，其中，X1、X2、X3中至少有一个为碳原子数为1-5的烷氧基；Y代表丙烯酸酯基团，R为C2-C20的碳链或C2-C20的含杂原子的杂链；n为1-5之间的整数； S2，将陶瓷粉体加入到水解修饰剂中，搅拌，回流，产物分离，得到改性陶瓷粉体； 所述修饰剂的用量占陶瓷粉体质量的35-75%。

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