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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利光刻参数范围的确定方法、装置、存储介质及计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116819896B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310621348.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻参数范围的确定方法、装置、存储介质及计算机设备是由韦亚一;王嘉硕;苏晓菁;董立松;范泰安;朱奕华;李晨;沈浩设计研发完成，并于2023-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻参数范围的确定方法、装置、存储介质及计算机设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光刻参数预算的确定方法、装置、存储介质及计算机设备。其中方法包括：确定光刻系统对应的光刻参数的参数权重，并基于实验参数进行曝光实验得到实验曝光结果；在光刻参数中确定出参数组合，并基于实验参数、实验曝光结果以及参数权重，确定参数组合相对于实验参数的目标加权归一化和；针对目标加权归一化和以及曝光结果建立解析模型，利用目标加权归一化和以及曝光结果对解析模型进行模型拟合，得到拟合模型；计算拟合模型的反函数，基于预设的曝光结果范围以及拟合模型的反函数计算预算加权归一化和的取值范围，并将取值范围确定为光刻系统的光刻参数的取值范围。上述方法能提高光刻参数预算范围的计算精度。

本发明授权光刻参数范围的确定方法、装置、存储介质及计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种光刻参数预算的确定方法，应用于光刻系统，其特征在于，所述方法包括： 确定所述光刻系统对应的光刻参数的参数权重，并基于预设的实验参数，对所述光刻系统进行曝光实验，得到实验曝光结果； 在所述光刻参数中选取出参数组合，并基于所述实验参数、所述实验曝光结果以及所述参数权重，确定所述参数组合的目标加权归一化和； 针对所述目标加权归一化和以及所述实验曝光结果建立解析模型，利用所述目标加权归一化和以及所述实验曝光结果对所述解析模型进行模型拟合，得到拟合模型； 计算所述拟合模型的反函数，基于预设的曝光结果范围以及所述拟合模型的反函数计算预算加权归一化和的取值范围，并根据所述取值范围确定所述光刻系统的光刻参数的预算范围； 其中，所述光刻参数分别对应有预先设置的预设理想值以及参数最大值；所述光刻参数的参数权重的获得方式包括： 执行循环过程直至满足预设条件，其中，所述循环过程包括： 在全部所述光刻参数中选择出一个变量参数，并将全部所述光刻参数中，除去所述变量参数之外剩余的光刻参数确定为理想参数； 将所述变量参数对应的所述光刻参数的所述参数最大值确定为所述变量参数的参数数值，并基于所述变量参数以及每个所述理想参数对所述光刻系统执行曝光操作，得到曝光结果； 计算所述曝光结果与预设的理想曝光结果间的曝光尺寸变化量，以及所述变量参数的参数数值与所述变量参数对应的所述预设理想值间的参数变化量，并基于所述曝光尺寸变化量与所述参数变化量计算所述变量参数对应的所述光刻参数的参数权重； 将所述变量参数对应的预设理想值确定为所述变量参数的参数数值，并将所述变量参数以及所述理想参数确定为所述光刻参数； 所述预设条件为：每个所述光刻参数都得到对应的所述参数权重。

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