东丽株式会社矢矧奈穗子获国家专利权
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龙图腾网获悉东丽株式会社申请的专利气体分离膜和气体分离膜组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116322955B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180066088.5，技术领域涉及：B01D69/02；该发明授权气体分离膜和气体分离膜组件是由矢矧奈穗子;三原崇晃设计研发完成，并于2021-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本气体分离膜和气体分离膜组件在说明书摘要公布了：本发明提供能够防止运行时气体分离膜的破损、可长时间稳定地发挥优异分离性能的气体分离膜及气体分离膜组件。所述气体分离膜为至少一部分具有分离功能层的气体分离膜，该气体分离膜的形状为纤维状或膜状，所述分离功能层包含基体和颗粒。
本发明授权气体分离膜和气体分离膜组件在权利要求书中公布了：1.一种气体分离膜，其是至少一部分具有分离功能层的气体分离膜，所述气体分离膜的形状为纤维状，所述分离功能层包含基体和颗粒， 所述基体的碳元素比率为70atomic%以上且100atomic%以下，将所述基体的碳元素比率设为X、将所述颗粒的碳元素比率设为Y时，|X-Y|X×100为30%以下，所述X、Y的单位均为atomic%， 所述基体为高分子化合物的碳化物， 所述颗粒为选自由炭黑、石墨、膨胀石墨、碳纳米角、碳纳米带、碳纳米管、石墨烯、氧化石墨烯和富勒烯组成的组中的一种以上。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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