应用材料公司赛捷·托克·加勒特·多莎获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利纳米结构光学装置的气隙封装获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116075766B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180047524.4，技术领域涉及：G02B27/01；该发明授权纳米结构光学装置的气隙封装是由赛捷·托克·加勒特·多莎;大野贤一;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢瑟·振毅·泰欧;郭津睿设计研发完成，并于2021-06-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本纳米结构光学装置的气隙封装在说明书摘要公布了：本文描述的实施方式涉及封装的光学装置及形成具有可控气隙封装的光学装置的方法。在一个实施方式中，围绕多个光学装置结构在支撑层中形成有多个开口，以在光学装置结构、支撑层、及开口之间产生高折射率对比。在另一实施方式中，牺牲材料设置在光学装置结构之间并且随后封装层设置在光学装置结构上。牺牲材料被移除，从而形成由封装层、基板、及每个光学装置结构限定的空间。在又一实施方式中，封装层设置在光学装置结构上方，从而形成由封装层、基板、及每个光学装置结构限定的空间。
本发明授权纳米结构光学装置的气隙封装在权利要求书中公布了：1.一种光学装置，包含： 多个光学装置结构，所述多个光学装置结构设置在基板中或基板上，所述多个光学装置结构的每个结构包含： 小于2微米的临界尺寸，所述临界尺寸与每个结构的横截面的宽度或直径相对应；以及 结构材料，所述结构材料具有在约1.7与约4.0之间的光学装置折射率；以及 支撑层，所述支撑层围绕所述多个光学装置结构的每个光学装置结构，所述支撑层为所述多个光学装置结构提供机械支撑，所述支撑层包含： 支撑材料，所述支撑材料具有约1.0至约1.5的支撑层折射率；以及 穿过所述支撑层设置的多个开口，所述多个开口的每个开口邻接两个或更多个光学装置结构，所述多个开口具有约1.0的折射率。
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