苏州迈为科技股份有限公司胡广豹获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州迈为科技股份有限公司申请的专利HJT太阳能电池及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115842064B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310085778.6，技术领域涉及：H10F77/20；该发明授权HJT太阳能电池及其制备方法是由胡广豹;李剑;郁操设计研发完成，并于2023-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本HJT太阳能电池及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种HJT太阳能电池及其制备方法，该制备方法包括以下步骤：提供异质结电池基底，在异质结电池基底双面沉积透明导电氧化物层；在透明导电氧化物层表面制作掩膜层；对掩膜层进行图形化开口处理，形成具有图形化开口的掩膜层；暗黑环境下，在掩膜层的图形化开口处依次进行粗化、预浸、金属活化处理制得预处理异质结电池基底；对预处理异质结电池基底依次进行预镀、去氧化、电镀铜、退膜、化学镀锡处理，制得HJT太阳能电池。该方法中电池双面无需PVD溅射铜种子层及刻蚀，避免了含铜废水的排放；减少了由于铜种子层刻蚀引起的TCO损伤，降低了无效线宽遮挡区域，克服了传统技术的不足。
本发明授权HJT太阳能电池及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种HJT太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 提供异质结电池基底，在所述异质结电池基底双面沉积透明导电氧化物层； 在所述透明导电氧化物层的表面制作掩膜层； 对所述掩膜层进行图形化开口处理，形成具有图形化开口的掩膜层； 暗黑环境下，在所述掩膜层的图形化开口处依次进行粗化、预浸、金属活化处理，制得预处理异质结电池基底； 对所述预处理异质结电池基底依次进行预镀、去氧化、电镀铜、退膜、化学镀锡处理，制得HJT太阳能电池； 所述预镀采用化学预镀。
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