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龙图腾网获悉德国艾托特克有限两合公司申请的专利用于电解沉积铜沉积物的酸性水性组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115427613B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180029996.7，技术领域涉及：C25D3/38；该发明授权用于电解沉积铜沉积物的酸性水性组合物是由R·施密特;J·加伊达;W·罗兰;J·帕尔姆;H·杰哈设计研发完成，并于2021-04-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于电解沉积铜沉积物的酸性水性组合物在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于电解铜电镀的酸性水性组合物，所述组合物包含：i铜II离子、ii一种或多于一种由一个单一N‑杂芳族单环组成或包含其的抑制物，所述单环包含至少两个环氮原子及多于一个共价连接到所述环氮原子中的一个及或环碳原子的取代基，其中所述取代基独立地为或包含一个或多于一个直链或分支链聚烷二醇部分及或一个或多于一个直链或分支链聚烷二醇嵌段聚烷二醇或无规聚烷二醇部分，条件为如果所述抑制物包含OH基团，那么其分别是所述聚烷二醇部分、聚烷二醇嵌段聚烷二醇及无规聚烷二醇部分的末端OH基团，并且所述抑制物不包含NH2基团、卤素原子及硫原子；一种使用所述酸性水性组合物进行电解铜电镀的方法；及如上文所定义的具体抑制物。

本发明授权用于电解沉积铜沉积物的酸性水性组合物在权利要求书中公布了：1.一种用于电解沉积铜沉积物的酸性水性组合物，所述组合物包含： i铜II离子， ii一种或多于一种抑制物，其包含： 一个单一N-杂芳族单环，所述单环包含至少两个环氮原子及多于一个共价连接到所述环氮原子中的一个及或环碳原子的取代基，其中所述取代基独立地为或包含： 一个或多于一个直链或分支链聚烷二醇部分，及或 一个或多于一个直链或分支链聚烷二醇嵌段聚烷二醇或无规聚烷二醇部分， 条件为 如果所述抑制物包含OH基团，那么其分别是所述聚烷二醇部分、聚烷二醇嵌段聚烷二醇或无规聚烷二醇部分的末端OH基团，且 所述抑制物不包含NH2基团、卤素原子及硫原子， 其中ii中的所述一种或多于一种抑制物是选自由以下组成的群组： 其中各独立地 R表示直链或分支链聚烷二醇部分或直链或分支链聚烷二醇嵌段聚烷二醇或无规聚烷二醇部分且R1是烷基，及 n表示0、1、2、3、4或5，以及 其中ii中的所述抑制物具有在500gmol到5000gmol的范围内重量平均分子量Mw。

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