北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)陈苏伟获国家专利权
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龙图腾网获悉北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)申请的专利一种废液排放系统、废液排放方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114937622B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210568841.7，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权一种废液排放系统、废液排放方法及应用是由陈苏伟;李佳东;刘盈楹;李国森;张贵拓设计研发完成，并于2022-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种废液排放系统、废液排放方法及应用在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体设备废液排放的领域，具体而言，涉及一种废液排放系统、废液排放方法及应用。所述废液排放系统，包括：压缩气体储存装置、第一气动隔膜阀门、虹吸装置、第二气动隔膜阀门、沉积腔室和气液分离装置；其中，所述压缩气体储存装置、所述第一气动隔膜阀门、所述虹吸装置、所述第二气动隔膜阀门和所述沉积腔室依次连接；所述气液分离装置与所述虹吸装置的气液混合出口相连。所述的废液排放系统，各部件和结构设置合理，能够有效解决沉积腔室工艺中，晶圆上甩干的镀液淤积后倒流回工艺腔室的问题。
本发明授权一种废液排放系统、废液排放方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种废液排放系统，其特征在于，包括：压缩气体储存装置、第一气动隔膜阀门、虹吸装置、第二气动隔膜阀门、沉积腔室和气液分离装置； 其中，所述压缩气体储存装置、所述第一气动隔膜阀门、所述虹吸装置、所述第二气动隔膜阀门和所述沉积腔室依次连接； 所述气液分离装置与所述虹吸装置的气液混合出口相连； 虹吸装置通过虹吸效应从沉积腔室上部吸引废液； 所述压缩气体储存装置的出气口设置减压阀门； 所述第一气动隔膜阀门和所述虹吸装置之间设置膜片逆止阀门。
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