寰采星科技(宁波)有限公司陈鼎国获国家专利权
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龙图腾网获悉寰采星科技(宁波)有限公司申请的专利一种掩膜版制造方法及曝光系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120802572B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511172495.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种掩膜版制造方法及曝光系统是由陈鼎国;汪行;杨涛;许宗义设计研发完成，并于2025-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜版制造方法及曝光系统在说明书摘要公布了：本发明公开了制造掩膜版的方法，包括对料带进行曝光，得到具有多个第一图形的第一带段，其中，所述料带包括带状箔材和形成在所述带状箔材表面的光刻胶层，相邻两个所述第一图形之间存在间隔区，所述第一图形包括多个母标记图形和多个像素孔图形；通过处理器控制激光以设定路径依次对多个所述间隔区曝光，得到具有多个第二图形的第二带段，其中，所述设定路径与所述处理器中的设定图纸相匹配，所述第二图形包括与多个所述母标记图形对应的多个子标记图形，和与所述间隔区相对应的辅助图形。本发明还公开了一种曝光系统。
本发明授权一种掩膜版制造方法及曝光系统在权利要求书中公布了：1.一种用于制造掩膜版的方法，其特征在于，包括： 对料带进行曝光，得到具有多个第一图形的第一带段，其中，所述料带包括带状箔材和形成在所述带状箔材表面的光刻胶层，相邻两个所述第一图形之间存在间隔区，所述第一图形包括多个母标记图形和多个像素孔图形； 通过处理器控制激光以设定路径依次对多个所述间隔区曝光，得到具有多个第二图形的第二带段，其中，所述设定路径与所述处理器中的设定图纸相匹配，所述第二图形包括与多个所述母标记图形对应的多个子标记图形，和与所述间隔区相对应的辅助图形，控制激光以设定路径对所述间隔区曝光包括： 获取所述母标记图形的实际坐标； 确定所述实际坐标与所述设定图纸中的相应的理论坐标的偏移关系，所述理论坐标与所述子标记图形对应； 根据所述偏移关系对所述设定路径校正，并获得起始坐标，使得通过设定路径形成的所述第二图形与相应的所述第一图形的对位精度符合设定标准； 控制激光以所述起始坐标为起点，沿所述设定路径对相应的间隔区曝光，得到相应的所述第二图形。
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