湖北兴福电子材料股份有限公司班昌胜获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北兴福电子材料股份有限公司申请的专利一种含氟蚀刻液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119570491B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411593075.5，技术领域涉及：C09K13/06；该发明授权一种含氟蚀刻液是由班昌胜;贺兆波;张庭;冯凯;叶瑞;李飞;李素云;苏张轩;严凡;樊凘;罗佳杨设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含氟蚀刻液在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含氟的氮化硅蚀刻液，该蚀刻液包括磷酸、含氟化合物、氧化铝蚀刻抑制剂、钨蚀刻抑制剂、氧化硅蚀刻抑制剂和去离子水。本发明所述的蚀刻液可在热磷酸中实现氮化硅对氧化硅对氧化铝和钨的选择性蚀刻，同时抑制氧化硅的蚀刻，并且由于含氟化合物的络合缓释效应，氮化硅的蚀刻速率在高温下较磷酸氢氟酸体系更加稳定。
本发明授权一种含氟蚀刻液在权利要求书中公布了：1.一种含氟的氮化硅蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液包括如下原料： 79.5-80.5%质量含量的磷酸；0.03-0.06%质量含量的含氟化合物； 1.5-3.0%质量含量的氧化铝蚀刻抑制剂；0.1-0.2%质量含量的钨蚀刻抑制剂； 0.3-0.5%质量含量的氧化硅蚀刻抑制剂；余量为去离子水； 含氟化合物为氟磷酸、六氟磷酸、氟硼酸、六氟砷酸、六氟锑酸、六氟锆酸、六氟钛酸中的一种； 氧化铝蚀刻抑制剂为3,4,5-三羟基苯甲酸、2,3,4-三羟基苯甲酸、2,4,6-三羟基苯甲酸、3,4,5-三羟基苯甲酰胺、2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸、吡咯-2,3,5-三羧酸中的一种或多种的组合； 所述的钨蚀刻抑制剂为吡唑、1-苯基吡唑、4-吡唑羧酸、1,3,5-三甲基吡唑、1-甲基吡唑-5-甲酸、3,5-吡唑二羧酸、3,5-二甲基吡唑-4-羧酸中的一种或多种的组合； 所述的氧化硅蚀刻抑制剂为以四甲氧基硅烷和氢氧化胆碱为原料合成的硅酸胆碱，结构式如下： 。
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