合肥乐凯科技产业有限公司庞晓获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥乐凯科技产业有限公司申请的专利一种多层陶瓷电容器用离型膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118124231B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311735535.9，技术领域涉及：B32B27/36；该发明授权一种多层陶瓷电容器用离型膜是由庞晓;刘玉磊;黄永华;李超;胡万云;周然;赵保良;陈众联设计研发完成，并于2023-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多层陶瓷电容器用离型膜在说明书摘要公布了：一种多层陶瓷电容器用离型膜，所述离型膜包括背涂层、基材层、镀膜层和离型层，所述基材层的一面设有背涂层，另一面设有镀膜层，所述镀膜层上设有离型层，所述基材层与镀膜层连接面的表面粗糙度Ra≤50nm、Rp≤500nm，基材横向热膨胀系数≤99×10‑6K‑1；镀膜层与离型层连接面的表面粗糙度Ra≤20nm、Rp≤200nm。本发明使用蒸发镀膜的方法，在多层陶瓷电容器离型膜基材表面镀二氧化硅镀膜层，实现填坑效果，极大的降低了基材层的粗糙度。
本发明授权一种多层陶瓷电容器用离型膜在权利要求书中公布了：1.一种多层陶瓷电容器用离型膜，其特征在于：所述离型膜包括背涂层、基材层、镀膜层和离型层，所述基材层的一面设有背涂层，另一面设有镀膜层，所述镀膜层上设有离型层，所述基材层与镀膜层连接面的表面粗糙度Ra≤50nm、Rp≤500nm，基材横向热膨胀系数≤99×10-6K-1；镀膜层与离型层连接面的表面粗糙度Ra≤20nm、Rp≤200nm； 所述镀膜层为二氧化硅镀膜层，镀膜厚度不超过500nm； 所述离型层是聚丙烯酸酯类非硅离型层，其厚度为0.05μm~0.3μm。
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