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龙图腾网获悉江苏鲁汶仪器股份有限公司申请的专利一种刻蚀方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117004949B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210468492.1，技术领域涉及：C23F4/00；该发明授权一种刻蚀方法是由王耀;彭泰彦;杨宇新;蒋中原;许开东设计研发完成，并于2022-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种刻蚀方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种刻蚀方法，提供待刻蚀结构，待刻蚀结构包括绝缘层，以及在绝缘层上依次设置的金属层和图案化的光刻胶层；以光刻胶层为掩蔽，利用惰性气体离子束以第一刻蚀角度对金属层进行刻蚀，得到刻蚀槽；光刻胶层的侧壁表面在刻蚀过程中形成金属沉积层；利用混合气体离子束以第二刻蚀角度对光刻胶层和金属沉积层进行刻蚀，以去除金属沉积层；混合气体包括惰性气体和反应气体，反应气体可以与光刻胶层反应，能够消耗光刻胶层，从而降低刻蚀槽的深宽比，利于混合气体离子束刻蚀金属沉积层，混合气体以第二刻蚀角度入射到刻蚀槽中，第二刻蚀角度大于第一刻蚀角度，能够完全去除金属沉积层，并且能够降低对绝缘层的损伤，提高金属电极良率。

本发明授权一种刻蚀方法在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀方法，其特征在于，包括： 提供待刻蚀结构，所述待刻蚀结构包括绝缘层，以及在所述绝缘层上依次设置的金属层和图案化的光刻胶层； 以所述光刻胶层为掩蔽，利用惰性气体离子束以第一刻蚀角度对所述金属层进行刻蚀，得到刻蚀槽；所述光刻胶层的侧壁表面在刻蚀过程中形成金属沉积层； 利用混合气体离子束以第二刻蚀角度对所述光刻胶层和所述金属沉积层进行刻蚀，以去除所述金属沉积层；所述混合气体包括惰性气体和反应气体；所述第二刻蚀角度大于所述第一刻蚀角度；在刻蚀过程中，所述惰性气体和所述反应气体共同作用于所述金属沉积层，所述惰性气体通过物理轰击修饰所述金属沉积层，所述反应气体则在辅助修饰所述金属沉积层的同时，与所述光刻胶层发生反应，起到反应离子刻蚀作用，加速所述光刻胶层消耗，降低所述刻蚀槽的深宽比，避免金属在侧壁上反复沉积，以去除所述金属沉积层； 所述第二刻蚀角度的范围为45°~75°，所述第一刻蚀角度的范围为0~20°。

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