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龙图腾网获悉中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请的专利一种铂薄膜及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116926471B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210350962.4，技术领域涉及：C23C14/18；该发明授权一种铂薄膜及其制作方法是由吕伟明;范亚明;王逸群;时文华;曾中明;张宝顺设计研发完成，并于2022-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种铂薄膜及其制作方法在说明书摘要公布了：提供了一种铂薄膜及其制作方法，所述制作方法包括：利用抛光液对陶瓷衬底进行化学机械抛光处理，以获得具有预定粗糙度的陶瓷衬底；在预定的衬底温度下，利用磁控溅射法在陶瓷衬底上沉积形成铂薄膜；对铂薄膜进行退火处理。本发明通过采用化学机械抛光处理以及多次溅射的方式制备获得了具有厚度薄、方阻低、均一性高、成本低等优点的铂薄膜，实现了在厚度较薄的条件下，铂薄膜的电学性能与厚膜的性能相当，在保证良好性能的同时降低了生产成本。因此，将其应用于电阻温度传感器中，不仅有利于满足电阻温度传感器产品对环境温度的精准测量的要求，还有利于降低电阻温度传感器的生产成本，提高生产效率。

本发明授权一种铂薄膜及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种铂薄膜的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括： 预处理：利用抛光液对陶瓷衬底进行化学机械抛光处理，以获得具有预定粗糙度的陶瓷衬底； 镀膜：在预定的衬底温度下，利用磁控溅射法在所述陶瓷衬底上沉积形成铂薄膜； 热处理：对所述铂薄膜进行退火处理； 其中，所述利用磁控溅射法在所述陶瓷衬底上沉积形成铂薄膜的具体过程包括： 以金属铂为靶材，持续通入预定气体流量的工作气体； 在所述工作气体气氛下，在所述陶瓷衬底上依次进行第一次预溅射和第一次溅射后进行冷却； 在所述工作气体气氛下，在所述陶瓷衬底上依次进行第二次预溅射和第二次溅射后进行冷却； 在所述工作气体气氛下，在所述陶瓷衬底上依次进行第三次预溅射和第三次溅射； 其中，所述铂薄膜在各次溅射中进行生长，而在各次预溅射中不进行生长； 其中，第二次预溅射和第三次预溅射的溅射时间为5s，第一次溅射的溅射时间为30s； 所述镀膜步骤中，所述衬底温度为280℃~320℃，所述磁控溅射的真空度为3.0×10-4Pa~9.0×10-4Pa，所述磁控溅射的直流功率为260W~340W； 所述工作气体为氩气，所述工作气体的气体流量为136sccm；所述第一次溅射、第二次溅射和第三次溅射的时间和为224s~245s。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，其通讯地址为：215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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