合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司叶志杰获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116916675B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311034978.5，技术领域涉及：H10K50/818；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示装置是由叶志杰;李欣宇;贾文斌;王欣欣;彭锐;范招康设计研发完成，并于2023-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；在衬底基板上呈阵列排布的多个发光器件，多个发光器件的间隔区域设置有透明区域，发光器件包括层叠设置在衬底基板上的第一电极、有机发光层和第二电极，有机发光层在衬底基板上的正投影与透明区域互不交叠，第一电极为反射电极，第二电极被配置为将有机发光层发出的光部分透射且部分反射；像素界定层，设置在衬底基板上，像素界定层包括：间隔设置的第一开口区域以及被配置为限定透明区域的第二开口区域，每个发光器件设置在一个第一开口区域处，第二开口区域内设置有隔离层，隔离层被配置为阻止第二电极延伸到透明区域。
本发明授权阵列基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括： 衬底基板； 在所述衬底基板上呈阵列排布的多个发光器件，所述多个发光器件的间隔区域设置有透明区域，所述发光器件包括层叠设置在所述衬底基板上的第一电极、有机发光层和第二电极，所述有机发光层在所述衬底基板上的正投影与所述透明区域互不交叠，所述第一电极为反射电极，所述第二电极被配置为将所述有机发光层发出的光部分透射且部分反射； 像素界定层，设置在所述衬底基板上，所述像素界定层包括：间隔设置的第一开口区域以及被配置为限定透明区域的第二开口区域，每个所述发光器件设置在一个所述第一开口区域处，所述第二开口区域内设置有隔离层，所述隔离层被配置为阻止所述第二电极延伸到所述透明区域； 所述多个发光器件的第二电极相互连通，所述像素界定层的靠近所述第二开口区域的侧壁为斜坡面，所述第二电极随形覆盖所述斜坡面的至少部分区域，且与所述隔离层的边缘相接。
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