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武汉颐光科技有限公司江攀获国家专利权

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龙图腾网获悉武汉颐光科技有限公司申请的专利一种面向椭偏仪的光斑大小测量装置及测量方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115979142B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211601680.3,技术领域涉及:G01B11/06;该发明授权一种面向椭偏仪的光斑大小测量装置及测量方法是由江攀;陈军;何勇;杨成;李伟奇;郭春付;张传维设计研发完成,并于2022-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。

一种面向椭偏仪的光斑大小测量装置及测量方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种面向椭偏仪的光斑大小测量装置及测量方法,所述装置包括:相机模组、光栅反射组件、光斑大小检测样品,以及样品位移台。所述方法包括:获取光栅反射组件上的椭偏仪的光斑;获取光斑的中心位置坐标;使用高斯模型拟合光斑灰度值;建立光斑的三维形态;获取光斑重心位置;建立检测坐标系;获取正方形图案的图案中心位置;将图案中心与光斑重心重合;在多个检测坐标系中的位置测量光斑大小检测样品;建立检测厚度变化曲线;截取检测厚度变化曲线中的合格测量部分,获取合格测量部分的大小;椭偏仪光斑大小等于所述正方形图案的大小减去所述合格测量部分的大小;实现了对椭偏仪的光斑大小和形态的检测。

本发明授权一种面向椭偏仪的光斑大小测量装置及测量方法在权利要求书中公布了:1.一种面向椭偏仪的光斑大小测量装置,其特征在于,包括: 用于拍摄椭偏仪的光斑形态的相机模组; 用于反射椭偏仪光斑,使光进入相机组件的光栅反射组件; 光斑大小检测样品,所述光斑大小检测样品为具有正方形图案的SiO2样品;以及 用于放置并调整光斑大小检测样品位置的样品位移台; 所述相机模组包括:相机位移台、由相机镜头和CMOS传感器构成的相机组件;所述相机位移台用于固定所述相机组件,且具有三维线性位移调节功能; 所述光栅反射组件和所述光斑大小检测样品均位于椭偏仪的焦面上,重心位置与图案中心在垂直方向上重合。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人武汉颐光科技有限公司,其通讯地址为:430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区金融港四路10号6号楼(自贸区武汉片区);或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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