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龙图腾网获悉合肥京东方星宇科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种阵列基板及其制备方法、发光装置和拼接显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115692453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110883921.7，技术领域涉及：H10H29/856；该发明授权一种阵列基板及其制备方法、发光装置和拼接显示装置是由高亮;汤海设计研发完成，并于2021-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种阵列基板及其制备方法、发光装置和拼接显示装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、发光装置和拼接显示装置。阵列基板包括：器件区；与器件区相邻的周边区；器件区和周边区均包括衬底和位于衬底上的反射层；器件区还包括层间介质层和多个器件，层间介质层至少位于衬底和反射层之间；反射层具有沿垂直于衬底方向上的多个镂空区，器件位于镂空区内；其中，反射层位于器件区的部分在衬底上的正投影与层间介质层在衬底上的正投影部分交叠，反射层位于周边区的部分覆盖衬底位于周边区的部分，且衬底的外轮廓与阵列基板的周边区的外轮廓一致。该阵列基板的周边区能够反射光线，从而改善了阵列基板存在的不同区域光学亮度差异较大问题，提高阵列基板制备的拼接显示装置的显示效果。

本发明授权一种阵列基板及其制备方法、发光装置和拼接显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括： 器件区； 与所述器件区相邻的周边区； 所述器件区和所述周边区均包括衬底和位于所述衬底上的反射层； 所述器件区还包括层间介质层和多个器件，所述层间介质层至少位于所述衬底和所述反射层之间；所述反射层具有沿垂直于所述衬底方向上的多个镂空区，所述器件位于所述镂空区内； 其中，所述反射层位于所述器件区的部分在所述衬底上的正投影与所述层间介质层在所述衬底上的正投影部分交叠，所述反射层位于所述周边区的部分覆盖所述衬底位于所述周边区的部分，且所述衬底的外轮廓与所述周边区的外轮廓一致；所述器件至少包括发光器件； 所述阵列基板还包括辅助反射部；所述辅助反射部位于所述层间介质层上，且所述辅助反射部和所述反射层相连； 所述辅助反射部包括第一反射部和第二反射部，所述第一反射部和所述第二反射部为一体结构； 所述镂空区暴露出所述层间介质层的部分区域，所述第一反射部在所述衬底上的正投影位于所述镂空区，且所述第一反射部与所述层间介质层直接接触； 所述第二反射部与所述反射层远离所述衬底的表面直接接触，且所述第二反射部在所述衬底上的正投影与所述反射层在所述衬底上的正投影交叠； 所述阵列基板还包括多个与所述器件对应的封装单元，所述封装单元在所述衬底上的正投影覆盖所述器件在所述衬底上的正投影，且所述封装单元在所述衬底上的正投影与所述反射层在所述衬底上的正投影部分交叠。

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