科磊股份有限公司张晶获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利模式选择及缺陷检测训练获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115516293B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180032403.2,技术领域涉及:G01N21/88;该发明授权模式选择及缺陷检测训练是由张晶;董宇杰;V·巴蒂亚;P·麦克布赖德;K·巴哈斯卡尔;B·达菲设计研发完成,并于2021-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本模式选择及缺陷检测训练在说明书摘要公布了:一种系统可经配置用于联合缺陷发现及光学模式选择。在缺陷发现步骤期间检测缺陷。将所发现缺陷累积到模式选择数据集中。使用所述模式选择数据集来执行模式选择以确定模式组合。接着,可使用所述模式组合来训练所述缺陷检测模型。接着,可通过所述缺陷检测模型来检测额外缺陷。接着,可将所述额外缺陷提供到所述模式选择数据集,以进一步执行模式选择且训练所述缺陷检测模型。接着,可确定一或多个运行时间模式。所述系统可经配置用于图像像素级的模式选择及缺陷检测。
本发明授权模式选择及缺陷检测训练在权利要求书中公布了:1.一种系统,其包括: 控制器,其通信耦合到检验子系统,所述检验子系统经配置以在配置成具有多个候选光学模式中的任一者时使至少一个样本成像,所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器,所述程序指令引起所述一或多个处理器反复地联合执行光学模式选择及缺陷检测训练: 接收所述至少一个样本的至少一部分上的至少一个缺陷的缺陷数据; 从所述检验子系统接收至少一个图像且将所述至少一个图像存储在数据集中,其中所述至少一个图像与通过配置成具有所述多个候选光学模式中的候选光学模式的所述检验子系统在所述至少一个样本的所述至少所述部分上检测到的所述至少一个缺陷相关联; 通过执行模式选择模型从所述多个候选光学模式选择一或多个光学模式;及 运用与所述一或多个选定光学模式相关联的图像来训练缺陷检测模型; 其中所述一或多个处理器进一步经配置以从所述多个候选光学模式确定至少一个运行时间光学模式。
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