深圳盛方科技有限公司王宏伟获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳盛方科技有限公司申请的专利准分子激光器气体压力保护与安全泄压后的气体处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224204576U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520967312.3，技术领域涉及：H01S3/036；该实用新型准分子激光器气体压力保护与安全泄压后的气体处理装置是由王宏伟设计研发完成，并于2025-05-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本准分子激光器气体压力保护与安全泄压后的气体处理装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了准分子激光器气体压力保护与安全泄压后的气体处理装置，包括一端能与准分子激光器谐振腔连通的爆破片装置1，所述的爆破片装置1另一端设有在爆破片装置1的膜片14破裂时能被谐振腔内泄漏的工作气体顶开的单向安全阀2，所述的单向安全阀2上连接有能对泄漏的工作气体进行净化处理的吸收装置3，所述的吸收装置3上设有能将净化后的气体排出的排气口4。本实用新型结构简单，能够防止外部空气倒灌入准分子激光器内部，保持内部气体纯净，而且还对排放出来的气体进行吸收净化处理，使其达到可排放标准，消除对工作人员及环境的危害。
本实用新型准分子激光器气体压力保护与安全泄压后的气体处理装置在权利要求书中公布了：1.准分子激光器气体压力保护与安全泄压后的气体处理装置，其特征在于：包括一端能与准分子激光器谐振腔连通的爆破片装置1，所述的爆破片装置1另一端设有在爆破片装置1的膜片14破裂时能被谐振腔内泄漏的工作气体顶开的单向安全阀2，所述的单向安全阀2上连接有能对泄漏的工作气体进行净化处理的吸收装置3，所述的吸收装置3上设有能将净化后的气体排出的排气口4。
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