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龙图腾网获悉浙江工业大学申请的专利适用金刚石工件的光化学反应与剪切增稠复合抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118268940B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410364626.4，技术领域涉及：B24B1/00；该发明授权适用金刚石工件的光化学反应与剪切增稠复合抛光方法是由吕冰海;柯明峰;王佳焕;邵蓝樱;周雨设计研发完成，并于2024-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本适用金刚石工件的光化学反应与剪切增稠复合抛光方法在说明书摘要公布了：本发明公开了适用金刚石工件的光化学反应与剪切增稠复合抛光方法，通过使用特定的剪切增稠抛光液对金刚石工件进行加工，抛光时使用紫外光持续照射抛光液，抛光液中的光触媒微粉吸收紫外光的能量，光生空穴形成羟基自由基，一方面，羟基自由基和纳米二氧化硅表面的Si悬挂键结合形成‑Si‑OH基团，另一方面，剪切增稠抛光液里的羟基自由基与工件粗糙表面接触，在其表面形成大量‑OH官能团；抛光时，工件表面与剪切增稠抛光液相互摩擦使剪切增稠抛光液局部温度升高，促使发生缩合反应形成C‑O‑Si化学键合，然后在强剪切力的作用下，金刚石工件表面的C‑C背键被打破，使金刚石工件表面的C‑O‑Si化学键合被去除，达到高效、高质量的抛光的目的。

本发明授权适用金刚石工件的光化学反应与剪切增稠复合抛光方法在权利要求书中公布了：1.适用金刚石工件的光化学反应与剪切增稠复合抛光方法，其特征在于： 该方法利用剪切增稠抛光装置对金刚石工件进行抛光，抛光时，金刚石工件与抛光槽中的剪切增稠抛光液存在相对剪切作用，实现材料去除； 所述剪切增稠抛光液中含有双氧水、纳米二氧化硅以及光触媒微粉；抛光过程中，向剪切增稠抛光液中照射紫外光，抛光液中的光触媒微粉吸收紫外光的能量，激发电子从价带到导带上，形成自由电子与空穴，空穴具有强氧化性，将吸附在光触媒微粉表面的H2O或H2O2催化生成具有强氧化性的羟基自由基；一部分羟基自由基和纳米二氧化硅表面的Si悬挂键结合形成-Si-OH基团，覆盖在纳米二氧化硅表面使其表面改性，呈超亲水性；另一部分羟基自由基和金刚石表面的C悬挂键结合，生成-OH官能团；抛光过程中，金刚石工件与剪切增稠抛光液之间的摩擦使体系升温，促使金刚石工件表面的-OH官能团与纳米二氧化硅表面的-Si-OH基团发生缩合反应形成C-O-Si化学键合；在抛光过程中，金刚石工件受到的强剪切力打破C-C背键，从而使金刚石工件表面的C-O-Si化学键合被去除，工件表面微粗糙峰在摩擦与化学的相互耦合作用下被有效去除，进而达到抛光的目的。

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