京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司朱飞飞获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司申请的专利抗反射层叠结构及其制造方法、显示面板、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117377571B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202280001116.X,技术领域涉及:B32B27/30;该发明授权抗反射层叠结构及其制造方法、显示面板、显示装置是由朱飞飞;张新霞;张然;贾文斌;詹成勇;唐文浩设计研发完成,并于2022-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗反射层叠结构及其制造方法、显示面板、显示装置在说明书摘要公布了:提供一种抗反射层叠结构及其制造方法、显示面板、显示装置。该抗反射层叠结构包括:基板,具有第一折射率和第一表面;抗静电层,设置在所述基板的一侧,所述抗静电层具有第二折射率以及与所述第一表面相对的第二表面;抗反射层,设置在所述基板和所述抗静电层之间,所述抗反射层包括至少一个复合层,所述复合层包括第一抗反射层和第二抗反射层,所述第一抗反射层具有第三折射率,所述第二抗反射层具有第四折射率;至多一个第一抗反射层与所述基板的第一表面贴合,至多一个第二抗反射层与所述抗静电层的第二表面贴合,所述第二折射率大于所述第一折射率和所述第四折射率,所述第三折射率大于所述第一折射率和所述第四折射率。
本发明授权抗反射层叠结构及其制造方法、显示面板、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种抗反射层叠结构,包括: 基板,具有第一折射率和第一表面; 抗静电层,设置在所述基板的一侧,所述抗静电层具有第二折射率以及与所述第一表面相对的第二表面; 抗反射层,设置在所述基板和所述抗静电层之间,所述抗反射层包括至少一个复合层,所述复合层包括第一抗反射层和第二抗反射层,所述第一抗反射层具有第三折射率,所述第二抗反射层具有第四折射率; 其中,至多一个第一抗反射层与所述基板的第一表面贴合,至多一个第二抗反射层与所述抗静电层的第二表面贴合, 所述第二折射率大于所述第一折射率和所述第四折射率,所述第三折射率大于所述第一折射率和所述第四折射率; 所述抗反射层叠结构还包括偏光层,所述偏光层设置在所述抗静电层远离所述基板的一侧,所述偏光层具有第五折射率,所述第五折射率小于所述第二折射率; 所述抗反射层包括靠近所述基板的第一复合层和靠近所述抗静电层的第二复合层,所述第一复合层的所述第一抗反射层的厚度小于所述第一复合层的所述第二抗反射层的厚度,所述第二复合层的所述第一抗反射层的厚度小于所述第二复合层的所述第二抗反射层的厚度。
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