应用材料公司崔振江获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于去除含钨膜的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115552572B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180033873.0，技术领域涉及：H10P50/26；该发明授权用于去除含钨膜的系统和方法是由崔振江;R·P·雷迪;王安川设计研发完成，并于2021-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于去除含钨膜的系统和方法在说明书摘要公布了：示例性蚀刻方法可包括：使含卤素前驱物流动至半导体处理腔室的远程等离子体区域中同时激发等离子体以产生等离子体流出物。方法可包括：使容纳于处理区域中的基板接触等离子体流出物。基板可限定氧化钨的暴露区域。接触可产生氟氧化钨材料。方法可包括：使蚀刻剂前驱物流动至处理区域中。方法可包括：使氟氧化钨材料接触蚀刻剂前驱物。方法可包括：去除氟氧化钨材料。
本发明授权用于去除含钨膜的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻方法，包含： 使含卤素前驱物流动至半导体处理腔室的远程等离子体区域中同时激发等离子体以产生等离子体流出物； 使容纳于处理区域中的基板接触所述等离子体流出物，其中所述基板限定氧化钨的暴露区域，并且其中所述接触产生氟氧化钨材料； 增加所述半导体处理腔室中的压力； 使蚀刻剂前驱物流动至所述处理区域中； 使所述氟氧化钨材料接触所述蚀刻剂前驱物；以及 去除所述氟氧化钨材料。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励