深圳市恒运昌真空技术股份有限公司范天赐获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市恒运昌真空技术股份有限公司申请的专利气体输送组件及等离子体产生装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224192116U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520890014.9,技术领域涉及:H05H1/24;该实用新型气体输送组件及等离子体产生装置是由范天赐;刘涛设计研发完成,并于2025-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本气体输送组件及等离子体产生装置在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种气体输送组件及等离子体产生装置,涉及等离子体加工技术领域,其中,等离子体产生装置包括具有多个间隔设置的等离子体产生腔室的等离子体产生主体,气体输送组件包括第一连接盘和第二连接盘,第一连接盘上设置有进气通道,第二连接盘和第一连接盘连接并围合形成扩散腔室,进气通道的一端与外部气源连通,其另一端连通扩散腔室,等离子体产生主体设置在第二连接盘远离第一连接盘的一侧,第二连接盘上设置有与多个等离子体产生腔室一一对应连通的气体扩散口。工艺气体从进气通道进入扩散腔室,再从多个气体扩散口均匀分散至多个等离子体产生腔室中被激发生成等离子体,该结构可提升对工艺气体的处理效率。
本实用新型气体输送组件及等离子体产生装置在权利要求书中公布了:1.一种气体输送组件,应用于等离子体产生装置,其特征在于,所述等离子体产生装置包括等离子体产生主体,所述等离子体产生主体具有多个间隔设置的等离子体产生腔室,所述气体输送组件包括: 第一连接盘,所述第一连接盘上设有进气通道;以及 第二连接盘,设于所述第一连接盘靠近所述等离子体产生主体的一侧并与所述第一连接盘连接且围合形成有扩散腔室,所述进气通道的一端用于与外部气源连通,所述进气通道的另一端与所述扩散腔室连通; 所述第二连接盘远离所述第一连接盘的一侧用于与所述等离子体产生主体连接,所述第二连接盘上设有多个与所述扩散腔室连通的气体扩散口,每一所述气体扩散口用于与一所述等离子体产生腔室连通。
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