合镁电子科技(苏州)有限公司李清和获国家专利权
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龙图腾网获悉合镁电子科技(苏州)有限公司申请的专利一种低功率线绕熔断电阻的防爆结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224153351U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520448099.5，技术领域涉及：H01H85/048；该实用新型一种低功率线绕熔断电阻的防爆结构是由李清和;李世明;刘华举设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低功率线绕熔断电阻的防爆结构在说明书摘要公布了：本实用新型涉及电阻防爆技术领域，具体地说，涉及一种低功率线绕熔断电阻的防爆结构。其包括防爆层，防爆层内部中空并设置有熔断层，熔断层采用石膏粉制成，熔断层内壁开设有预裂槽，且预裂槽连通位于熔断层内外壁厚度之间设有的螺旋沟槽，螺旋沟槽端口处开设有预留孔，用于将熔断层内部产生的高温气体沿螺旋沟槽排放至真空层，熔断层内部固定安装有磁棒，且磁棒外侧缠绕有铜引线，电阻内部铜引线在熔断后，产生的大量高温气体会冲破预裂槽，再经由螺旋沟槽导入真空层排出，增加了高温气体的行进路径和储气空间，避免高温气体在电阻内部局部区域形成过高的压力和温度，并且真空层的设置使高温气体的储气空间更大，避免了电阻爆炸的风险。
本实用新型一种低功率线绕熔断电阻的防爆结构在权利要求书中公布了：1.一种低功率线绕熔断电阻的防爆结构，包括防爆层100，其特征在于：所述防爆层100内部中空并设置有熔断层104，所述熔断层104采用石膏粉制成，所述熔断层104内壁开设有预裂槽107，且所述预裂槽107连通位于所述熔断层104内外壁厚度之间设有的螺旋沟槽108，所述螺旋沟槽108端口处开设有预留孔109，用于将所述熔断层104内部产生的高温气体沿螺旋沟槽108排放至真空层106，所述熔断层104内部固定安装有磁棒110，且所述磁棒110外侧缠绕有铜引线111。
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