芝浦机械电子装置株式会社高桥崇史获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利有机膜形成装置及有机膜的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115672667B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210713308.5,技术领域涉及:B05C9/14;该发明授权有机膜形成装置及有机膜的制造方法是由高桥崇史;矶明典设计研发完成,并于2022-06-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机膜形成装置及有机膜的制造方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种可降低对形成了有机膜的工件进行冷却所花费的成本且维持有机膜的品质的有机膜形成装置及有机膜的制造方法。有机膜形成装置包括:腔室;排气部;处理区域,用来支撑工件;加热部,与工件相向地设置;冷却部,对加热部供给冷却气体;以及控制器,对加热部、排气部及冷却部进行控制。控制器在工件为比阈值高的温度的情况下,将不易与经加热的工件反应的第一冷却气体供给至加热部,在工件为阈值以下的温度的情况下,将第二冷却气体供给至加热部,在自开始将处理完毕的工件从腔室搬出起至将接下来要进行处理的工件搬入至腔室,并通过第一加热部及第二加热部中的至少任一者进行升温为止的期间,将第一冷却气体供给至腔室内。
本发明授权有机膜形成装置及有机膜的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种有机膜形成装置,其特征在于,包括: 腔室,能够对减压至比大气压低的气体环境进行维持; 排气部,能够对所述腔室的内部进行排气,并且使所述腔室的压力等于或低于大气压的预定压力; 处理区域,用来支撑工件,所述工件具有基板及涂布于所述基板的上表面的包含有机材料及溶媒的溶液; 加热部,与被支撑于所述处理区域的所述工件相向地设置,并加热所述工件; 冷却部,对所述加热部供给冷却气体;以及 控制器,对所述加热部、所述排气部及所述冷却部进行控制, 所述冷却部具有: 第一气体供给路径,将不易与经加热的所述工件反应的第一冷却气体供给至所述加热部的内部,所述第一冷却气体是不包含氧的气体; 第二气体供给路径,将第二冷却气体供给至所述加热部的内部,所述第二冷却气体是包含氧的气体; 共用部,由所述第一气体供给路径及所述第二气体供给路径共用;以及 第一阀,将由所述第一气体供给路径供给的所述第一冷却气体与由所述第二气体供给路径供给的所述第二冷却气体选择性地供给至所述共用部, 所述控制器控制所述排气部将所述腔室的内部压力降低至所述预定压力或低于所述预定压力后,通过所述加热部将所述工件加热至高于阈值的预定温度, 在所述加热部的加热完成后,所述控制器在所述工件为比阈值高的温度的情况下,控制所述第一阀将第一冷却气体供给至所述加热部, 通过所述第一冷却气体的供给而使所述工件为阈值以下的温度的情况下,则控制所述第一阀将第二冷却气体供给至所述加热部, 通过供给所述第一冷却气体和所述第二冷却气体,使所述腔室内的压力恢复到大气压后,在自开始将处理完毕的所述工件从所述腔室搬出起至将接下来要进行处理的工件搬入至所述腔室,并通过所述加热部对接下来要进行处理的所述工件进行升温为止的期间,控制所述第一阀,以将所述第一冷却气体供给至所述腔室内。
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