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龙图腾网获悉拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司申请的专利硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115637423B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211370731.6，技术领域涉及：C23C16/458；该发明授权硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统是由林佳继;朱鹤囡;戴佳设计研发完成，并于2022-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统在说明书摘要公布了：本发明属于半导体制造和太阳能光伏电池制造技术领域，公开了一种硅片翻转装置，该装置包括硅片安置机构,硅片安置机构包括安置框和翻转架，翻转架可翻转地设在安置框内且用于固定硅片；该装置包括翻转机构，翻转机构的输出端与翻转架连接以对翻转架进行翻转；该装置包括限制机构，限制机构连接翻转架以及安置框以对翻转前后的翻转架限位。硅片镀膜处理系统包括上述硅片翻转装置，使安置在翻转架上的硅片经过翻转机构可实现翻转，翻转机构提供翻转动力，限制机构能够在翻转前后对翻转架进行限位，避免其在翻转前后偏位，共同作用即无需将安置框移出加工的工艺腔至转换腔中翻转硅片，减少了转换腔的设置，减少机构的设置，从而减少了成本。

本发明授权硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统在权利要求书中公布了：1.硅片翻转装置，其特征在于，包括： 硅片安置机构1,所述硅片安置机构1包括安置框11和翻转架12，所述翻转架12可翻转地设在所述安置框11内且用于固定硅片； 翻转机构2,所述翻转机构2的输出端与所述翻转架12连接，所述翻转机构2的输入端能够与外部驱动机构的输出端连接以对所述翻转架12进行翻转； 限制机构3，所述限制机构3连接所述翻转架12以及所述安置框11，以对翻转前后的所述翻转架12单向限位； 所述限制机构3具有第一转接部31和第二转接部32，所述第一转接部31与所述翻转架12连接，所述第二转接部32与所述安置框11连接，所述第一转接部31上设有第一限位部31a，所述第二转接部32上设有与所述第一限位部31a相配合的第二限位部32a；所述第一转接部31和所述第二转接部32相对转动时通过所述第一限位部31a和所述第二限位部32a单向卡接限位； 所述第一转接部31和所述第二转接部32为环形座，所述环形座包括两个首尾连接的半环形座，任意一个所述半环形座的第一端的高度高于其第二端的高度；任意一个所述半环形座的第一端与任意另一个所述半环形座的第二端连接形成所述环形座。

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