北京北方华创微电子装备有限公司许金基获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115602406B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110776469.4，技术领域涉及：H01F5/00；该发明授权用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备是由许金基;茅兴飞设计研发完成，并于2021-07-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种半导体工艺设备中用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备，该装置包括线圈结构和用于固定和冷却线圈结构的固定冷却组件，其中，固定冷却组件包括采用绝缘材料制作的固定本体，且在固定本体中形成有冷却空间，线圈结构固定设置在冷却空间中；固定本体上设置有与冷却空间相连通的进气口和出气口，进气口用于向冷却空间中输送冷却气体；出气口用于排出冷却空间中的冷却气体；在冷却空间中还设置有扰流结构，用以改变冷却空间中的气体流动方向，以提高冷却空间中的气体分布均匀性。本发明提供的上述线圈装置及半导体工艺设备，可以提高对线圈的冷却效率和冷却均匀性，降低线圈的氧化速度，从而可以延长线圈的使用寿命。
本发明授权用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备中用于产生等离子体的线圈装置，其特征在于，包括线圈结构和用于固定和冷却所述线圈结构的固定冷却组件，其中， 所述固定冷却组件包括采用绝缘材料制作的固定本体，且在所述固定本体中形成有冷却空间，所述线圈结构固定设置在所述冷却空间中；所述固定本体上设置有与所述冷却空间相连通的进气口和出气口，所述进气口用于向所述冷却空间中输送冷却气体；所述出气口用于排出所述冷却空间中的冷却气体； 在所述冷却空间中还设置有扰流结构，用以改变所述冷却空间中的气体流动方向，以提高所述冷却空间中的气体分布均匀性，其中，所述扰流结构包括第一扰流件和第二扰流件，其中，所述第一扰流件设置在靠近所述进气口的位置处，用以使流经所述第一扰流件的一部分冷却气体向所述冷却空间的边缘区域流动； 所述第二扰流件设置在靠近所述出气口的位置处，用以使流经所述第二扰流件的一部分冷却气体朝向所述冷却空间的中心区域流动。
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