西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司席勇获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利一种外延设备冷却系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114481314B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210108042.1，技术领域涉及：C30B25/16；该发明授权一种外延设备冷却系统和方法是由席勇;王力设计研发完成，并于2022-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种外延设备冷却系统和方法在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种外延设备冷却系统和方法，该系统包括：加热模块，所述加热模块经配置为能够以不同的加热功率向外延片进行热辐射；控制模块，用于当所述外延片的上表面测量温度和下表面测量温度之间的温度差大于预设阈值时，向所述加热模块发送控制信号以控制所述加热模块的功率使得所述温度差小于所述预设阈值。通过控制模块和加热模块保障外延片的上表面测量温度与下表面测量温度的温度差在合理范围内，有效减小了外延片的边缘应力，获得符合工艺要求的外延片。
本发明授权一种外延设备冷却系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种外延设备冷却系统，其特征在于，所述系统包括： 加热模块，所述加热模块经配置为能够以不同的加热功率向外延片进行热辐射； 控制模块，用于当所述外延片的上表面测量温度和下表面测量温度之间的温度差大于预设阈值时，向所述加热模块发送控制信号以控制所述加热模块的功率使得所述温度差小于所述预设阈值，其中，所述预设阈值经配置为至少两次触发所述控制模块向所述加热模块发送所述控制信号， 其中，所述冷却系统还包括用于承载所述外延片的石墨基座，所述石墨基座的下表面温度用于表征所述外延片的下表面温度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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