东京毅力科创株式会社竹口博史获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理方法和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112002654B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010418111.X，技术领域涉及：H10P70/00；该发明授权基片处理方法和基片处理装置是由竹口博史;筱原和义;大塚贵久;李水根设计研发完成，并于2020-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理方法和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供基片处理方法和基片处理装置。本发明的一个方式的基片处理方法包括第一清洗步骤和第二清洗步骤。第一清洗步骤用第一清洗液清洗基片。第二清洗步骤在第一清洗步骤后，用与第一清洗液相比清洁度低的第二清洗液清洗基片。本发明在使用清洁度低的清洗液的情况下，也能够从基片充分地除去颗粒。
本发明授权基片处理方法和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理方法，其特征在于，包括： 用第一清洗液清洗基片的正面的第一清洗步骤； 在所述第一清洗步骤后，用与所述第一清洗液相比清洁度低的第二清洗液清洗所述基片的所述正面的第二清洗步骤；和 在第二清洗步骤后，用功能水冲洗所述基片的所述正面的冲洗步骤。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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